在微观表面形貌测量领域，泽攸JS系列台阶仪凭借卓越的性能和广泛的适用性，成为众多行业和科研领域不可或缺的测量工具。它能针对多种具有可量化表面特征的固体样品展开精准测量，适用范围十分广泛。
在半导体材料领域，无论是硅基衬底、光刻胶图形，还是金属/介质薄膜（如SiO₂、Al、Cu）以及MEMS器件结构，泽攸JS系列台阶仪都能进行高效测量。对于纳米功能材料，像二维纳米薄膜（石墨烯、h-BN）和功能性涂层（超疏水、自组装单层膜），它也能精准捕捉其表面微观特征。在光学与磁存储材料方面，光学透镜表面、磁头/磁盘介质以及衍射光栅结构的测量需求，该仪器同样能够满足。此外，陶瓷薄膜、生物芯片载体、锂电池电极、聚合物微结构等其他特种材料，也都在其测量范畴之内。
微观表面形貌测量
泽攸JS系列台阶仪在多个方面发挥着重要作用。在表面台阶与高度差测量上，它能精准获取台阶高度（h）、横向特征尺寸（线宽、台阶宽度）等核心参数。
在半导体工艺监控中，可用于光刻胶刻蚀深度、薄膜沉积厚度的测量；在涂层厚度检测领域，能对PCB焊盘镀层、光伏电池透明导电膜的厚度进行精准把控，为生产工艺的优化提供数据支持。
台阶仪
表面粗糙度表征是该仪器的另一大重要应用方向，可测量算术平均偏差（Ra）、均方根粗糙度（Rq/Sq）、最大高度（Rz/Sz）等核心参数。在光学元件质量控制中，能通过测量表面粗糙度评估镜头镀膜散射特性，保障光学元件的质量；在高新材料优化领域，可对陶瓷材料表面性能进行分析，助力新材料的研发与改进。 在薄膜与界面分析方面，泽攸科技JS系列台阶仪可测量单层膜厚度（如SiO₂热氧化层）、多层膜界面粗糙度（如GaAs/AlGaAs异质结）等参数。在存储器件研发中，能对硬盘磁头薄膜均匀性进行检测，确保存储器件的性能；在柔性电子表征领域，可分析PET基底纳米银线薄膜连续性，为柔性电子技术的发展提供关键数据。 三维形貌与轮廓分析也是其重要功能之一，能生成三维形貌图，并获取轮廓曲线特征点坐标（峰值/谷值位置）等核心参数。在微纳加工验证中，可用于纳米压印结构完整性的检测，保障微纳加工产品的质量；在磨损腐蚀研究领域，能对金属表面损伤形态进行量化分析，为材料的防护和改进提供依据。
如需获取泽攸台阶仪产品资料/技术咨询，欢迎联系佛山翁开尔。佛山翁开尔是泽攸ZEPTOOLS中国战略合作伙伴。深耕检测服务领域23年的佛山翁开尔，始终致力于为行业提供专业解决方案。佛山翁开尔通过覆盖全国的技术支持网络，为客户提供设备选型、操作培训及定期维护等全流程服务。从材料研发到工艺优化，佛山翁开尔团队以专业经验助力企业突破技术瓶颈。
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